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長沙鑫康新材料有限公司 金屬靶材 硅(Si)靶材
硅(Si)靶材
硅(Si)靶材
產品類別
高純金屬靶材
產品名稱
硅(Si)靶材
元素符號
Si
純度
4N,5N
形狀
平面靶 旋轉靶 異型定制
硅(Si)靶材概述

硅(Si)靶材


硅濺射靶材為深灰色。硅在室溫下為固體,熔點為1,414°C(2,577°F),沸點為3,265°C(5,909°F)。像水一樣,與大多數其他物質不同,它在液態時的密度比固態時更大,并且在凍結時會膨脹。硅具有149 W?m-1?K-1的較高導熱系數,導熱性很好。硅濺射靶材主要用于反應磁控濺射中,以沉積SiO2和SiN等介電層。作為重要的功能性薄膜材料,它們具有良好的硬度,光學,介電性能和耐磨性。硅靶材的耐腐蝕性在光學和微電子領域具有廣闊的應用前景,并且目前在世界范圍內被廣泛用作功能材料。目前,它主要用于LCD透明導電玻璃,建筑LOW-E玻璃和微電子行業。硅濺射靶可分為兩種:單晶和多晶。我們通過直拉晶體生長方法生產平面硅濺射靶。


硅靶材制備工藝流程

備料 - 真空電子束熔煉  - 金剛石線切割 - 退火 - 機加工 - 尺寸檢測 - 清洗 - 終檢 - 包裝


硅濺射靶材的應用

主要用于半導體芯片、平板液晶顯示器(LCD)、裝飾和功能鍍膜工業、太陽能電池板、數據儲存工業(光盤工業)、光通訊工業、玻璃鍍膜(建筑玻璃和汽車玻璃)工業、抗腐蝕抗磨損(表面改性)等領域。


硅靶材的其他合金形式

硅鋁、銅硅、鎳鉻硅合金靶材等。






鍺(Ge)靶材
鎢鈦(WTi)合金靶材
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